讲座题目：国外技术引进、工业新产品创新增长与追赶
——异质吸收能力门槛效应视角
讲座嘉宾：谢丹阳 武汉大学经济发展研究中心教授、武汉大学经济与管理学院院长、教授，香港科技大学经济系教授
讲座时间：2016年4月28日周四9：30
讲座地点：上海社科国际创新基地五楼第二会议室
内容提要：引进国外先进技术可以直接提升自身技术水平，也可以通过消化吸收、模仿创新，推动本土技术创新的增长，但是，这种创新增长溢出效应的发挥，会受到吸收能力门槛的约束。本文利用面板门槛回归方法，考察了大中型工业企业的国外技术引进对其新产品创新增长的非线性影响和创新追赶效应。研究结果支持后发技术追赶假说，初始新产品创新水平越低的地区后来的创新增长越快，并发现自主创新对新产品创新增长有显著的正效应，国内技术购买对新产品创新增长没有显著的影响，国外技术引进对于新产品创新增长存在显著的异质吸收能力门槛效应：无论从初始创新水平、消化吸收支出还是从技术改造支出来看，吸收能力低于门槛水平的地区，引进国外技术对于新产品创新增长都具有显著的负效应，对本土创新呈现创新替代而非创新创造效应。